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Communication dans un congrès

Contribution of molecular simulation to the characterization of porous low-k materials

Abstract : This study aims to investigate the modified surface porosity of SiOCH low-k porous thin films using statistical mechanics molecular simulations and ellipso-porosimetry. The thin films are modified by plasma etching and wet cleaning. Numerical simulations of solvent adsorption on surfaces highlighted solvent affinity variations depending on chemical surface compositions.
Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
Liste complète des métadonnées

https://hal.umontpellier.fr/hal-01737151
Contributeur : Anthony Herrada Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : lundi 19 mars 2018 - 11:53:00
Dernière modification le : lundi 11 octobre 2021 - 13:22:44

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Citation

Lucile Broussous, Matthieu Lépinay, Benoit Coasne, Christophe Licitra, V. Rouessac, et al.. Contribution of molecular simulation to the characterization of porous low-k materials. 2015 IEEE International Interconnect Technology Conference and 2015 IEEE Materials for Advanced Metallization Conference (IITC/MAM), May 2015, Grenoble, France. pp.123-126, ⟨10.1109/IITC-MAM.2015.7325636⟩. ⟨hal-01737151⟩

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