Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition - Université de Montpellier

Article Dans Une Revue Microporous and Mesoporous Materials Année : 2016

Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition

(1) , (2) , (3) , (2) , (3) , (4) , (5) , (3) , (3) , (1) , (1)

1
2
3
4
5

Matthieu J. Lépinay

Fonction : Auteur
PersonId : 962289

Institut Européen des membranes

Daniel Lee

Fonction : Auteur
PersonId : 172843
IdHAL : daniellee
ORCID : 0000-0002-1015-0980
IdRef : 192007270

Magnetic Resonance

Riccardo Scarazzini

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Michel Bardet

Fonction : Auteur
PersonId : 173086
IdHAL : michel-bardet
ORCID : 0000-0002-5628-2292
IdRef : 178713317

Magnetic Resonance

Marc Veillerot

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Lucile Broussous

Fonction : Auteur

STMicroelectronics [Crolles]

Christophe Licitra

Fonction : Auteur

MINATEC 17

Vincent Jousseaume

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

François Bertin

Fonction : Auteur
PersonId : 867454

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Vincent R. Rouessac

Fonction : Auteur
PersonId : 21745
IdHAL : v-rouessac
ORCID : 0000-0002-5916-5948
IdRef : 124822010

Institut Européen des membranes

André Ayral

Fonction : Auteur
PersonId : 752028
IdHAL : andre-ayral
ORCID : 0000-0001-8579-6930
IdRef : 033468966

Institut Européen des membranes

Domaines

Chimie

Philippe FALQUE : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.umontpellier.fr/hal-01681533

Soumis le : jeudi 11 janvier 2018-17:03:15

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:36:11

Dates et versions

hal-01681533 , version 1 (11-01-2018)

Identifiants

HAL Id : hal-01681533 , version 1
DOI : 10.1016/j.micromeso.2016.04.004

Citer

Matthieu J. Lépinay, Daniel Lee, Riccardo Scarazzini, Michel Bardet, Marc Veillerot, et al.. Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition. Microporous and Mesoporous Materials, 2016, 228, pp.297 - 304. ⟨10.1016/j.micromeso.2016.04.004⟩. ⟨hal-01681533⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS IEM INAC-SCIB DRT INC-CNRS CHIMIE UNIV-MONTPELLIER CEA-DRF LETI IRIG CEA-GRE

293 Consultations

0 Téléchargements

Altmetric

Partager