Atomic layer deposition of transition metal films and nanostructures for electronic and catalytic applications - Université de Montpellier Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences Année : 2021

Atomic layer deposition of transition metal films and nanostructures for electronic and catalytic applications

James Maina
  • Fonction : Auteur
Andrea Merenda
  • Fonction : Auteur
Jennifer Pringle
  • Fonction : Auteur
Lachlan Hyde
Ludovic Dumée
  • Fonction : Auteur

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CRITICAL REVIEWS IN SOLID STATE AND MATERIALS SCIENCES Volume46 Issue5 Page468-489 SEP 2021.pdf (1.66 Mo) Télécharger le fichier
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Dates et versions

hal-03860199 , version 1 (02-12-2022)

Identifiants

Citer

James Maina, Andrea Merenda, Matthieu Weber, Jennifer Pringle, Mikhael Bechelany, et al.. Atomic layer deposition of transition metal films and nanostructures for electronic and catalytic applications. Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences, 2021, 46 (5), pp.468-489. ⟨10.1080/10408436.2020.1819200⟩. ⟨hal-03860199⟩
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