29Si NMR and Si2p XPS correlation in polysiloxane membranes prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Stephanie Roualdes; René Berjoan; Jean Durand

doi:10.1016/S1383-5866(01)00067-3

Article Dans Une Revue Separation and Purification Technology Année : 2001

29Si NMR and Si2p XPS correlation in polysiloxane membranes prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

(1) , , (1)

1

Stephanie Roualdes

Fonction : Auteur
PersonId : 752124
IdHAL : stephanie-roualdes
ORCID : 0000-0002-7201-8125
IdRef : 130332585

Institut Européen des membranes

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Jean Durand

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Institut Européen des membranes

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Dates et versions

hal-01737556 , version 1 (19-03-2018)

Identifiants

HAL Id : hal-01737556 , version 1
DOI : 10.1016/S1383-5866(01)00067-3

Citer

Stephanie Roualdes, René Berjoan, Jean Durand. 29Si NMR and Si2p XPS correlation in polysiloxane membranes prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition. Separation and Purification Technology, 2001, 25 (1-3), pp.391 - 397. ⟨10.1016/S1383-5866(01)00067-3⟩. ⟨hal-01737556⟩

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