Mass density determination of thin organosilicon films by X-ray reflectometry

A. van Der Lee; S. Roualdes; R. Berjoan; J. Durand

doi:10.1016/S0169-4332(00)00890-4

Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2001

Mass density determination of thin organosilicon films by X-ray reflectometry

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A. van Der Lee

Fonction : Auteur
PersonId : 746496
IdHAL : arie-van-der-lee
ORCID : 0000-0002-4567-1831
IdRef : 226110141

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S. Roualdes

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IdHAL : stephanie-roualdes
ORCID : 0000-0002-7201-8125
IdRef : 130332585

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CV

R. Berjoan

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Dernière modification le : lundi 17 juin 2024-09:09:41

Dates et versions

hal-01737533 , version 1 (19-03-2018)

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HAL Id : hal-01737533 , version 1
DOI : 10.1016/S0169-4332(00)00890-4

Citer

A. van Der Lee, S. Roualdes, R. Berjoan, J. Durand. Mass density determination of thin organosilicon films by X-ray reflectometry. Applied Surface Science, 2001, 173 (1-2), pp.115 - 121. ⟨10.1016/S0169-4332(00)00890-4⟩. ⟨hal-01737533⟩

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