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Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Membranes by Atomic Layer Deposition: design and applications

Mikhael Bechelany

Domaines

Chimie
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01711031 , version 1 (16-02-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01711031 , version 1

Citer

Mikhael Bechelany. Membranes by Atomic Layer Deposition: design and applications. AVS 18th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2018), Jul 2018, Incheon, South Korea. ⟨hal-01711031⟩
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