Electrodeposition of amorphous silicon in non-oxygenated organic solvent

Mikhael Bechelany; Jamil Elias; Pierre Brodard; Johann Michler; Laetitia Philippe

doi:10.1016/j.tsf.2011.09.026

Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2012

Electrodeposition of amorphous silicon in non-oxygenated organic solvent

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Mikhael Bechelany

Fonction : Auteur
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IdHAL : mikhael-bechelany
ORCID : 0000-0002-2913-2846
IdRef : 115336095

Institut Européen des membranes

Jamil Elias

Fonction : Auteur

Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est

Pierre Brodard

Fonction : Auteur

Johann Michler

Fonction : Auteur
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ORCID : 0000-0001-8860-4068
IdRef : 168055880

Laboratory for Mechanics of Materials and Nanostructures [Thun]

Laetitia Philippe

Fonction : Auteur
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ORCID : 0000-0003-0928-4487

EMPA Advanced Materials Processing

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Chimie

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Dates et versions

hal-01690077 , version 1 (22-01-2018)

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HAL Id : hal-01690077 , version 1
DOI : 10.1016/j.tsf.2011.09.026

Citer

Mikhael Bechelany, Jamil Elias, Pierre Brodard, Johann Michler, Laetitia Philippe. Electrodeposition of amorphous silicon in non-oxygenated organic solvent. Thin Solid Films, 2012, 520 (6), pp.1895 - 1901. ⟨10.1016/j.tsf.2011.09.026⟩. ⟨hal-01690077⟩

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