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Article dans une revue

LP-CVD Silicon-Based Film Formation in Submicrometer Trenches in Industrial Equipment: Experiments and Simulation

Domaine :
Liste complète des métadonnées

https://hal.umontpellier.fr/hal-01726649
Contributeur : Philippe Falque <>
Soumis le : jeudi 8 mars 2018 - 14:47:33
Dernière modification le : vendredi 10 janvier 2020 - 21:08:45

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H. Gris, B. Caussat, D. Cot, J. Durand, J.-P. Couderc. LP-CVD Silicon-Based Film Formation in Submicrometer Trenches in Industrial Equipment: Experiments and Simulation. Chemical Vapor Deposition, Wiley-VCH Verlag, 2002, 8 (5), pp.213 - 219. ⟨10.1002/1521-3862(20020903)8:5<213::AID-CVDE213>3.0.CO;2-8⟩. ⟨hal-01726649⟩

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