Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2015
Philippe FALQUE : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.umontpellier.fr/hal-01684781
Soumis le : lundi 15 janvier 2018-17:39:05
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15
Citer
Ming Zhou, Stéphanie Roualdes, Jie Zhao, Vincent Autès, Andre Ayral. Nanocrystalline TiO 2 thin film prepared by low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition for photocatalytic applications. Thin Solid Films, 2015, 589, pp.770 - 777. ⟨10.1016/j.tsf.2015.07.007⟩. ⟨hal-01684781⟩
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