Nanocrystalline TiO 2 thin film prepared by low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition for photocatalytic applications - Université de Montpellier Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2015

Nanocrystalline TiO 2 thin film prepared by low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition for photocatalytic applications

Ming Zhou
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  • PersonId : 761723
  • IdRef : 199672113
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Citer

Ming Zhou, Stéphanie Roualdes, Jie Zhao, Vincent Autès, Andre Ayral. Nanocrystalline TiO 2 thin film prepared by low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition for photocatalytic applications. Thin Solid Films, 2015, 589, pp.770 - 777. ⟨10.1016/j.tsf.2015.07.007⟩. ⟨hal-01684781⟩

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