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Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition

Type de document :
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https://hal.umontpellier.fr/hal-01681533
Contributeur : Philippe Falque Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : jeudi 11 janvier 2018 - 17:03:15
Dernière modification le : lundi 11 octobre 2021 - 13:22:43

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Citation

Matthieu Lépinay, Daniel Lee, Riccardo Scarazzini, Michel Bardet, Marc Veillerot, et al.. Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition. Microporous and Mesoporous Materials, Elsevier, 2016, 228, pp.297 - 304. ⟨10.1016/j.micromeso.2016.04.004⟩. ⟨hal-01681533⟩

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