Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition - Université de Montpellier Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microporous and Mesoporous Materials Année : 2016

Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition

Domaines

Chimie
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Dates et versions

hal-01681533 , version 1 (11-01-2018)

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Citer

Matthieu J. Lépinay, Daniel Lee, Riccardo Scarazzini, Michel Bardet, Marc Veillerot, et al.. Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition. Microporous and Mesoporous Materials, 2016, 228, pp.297 - 304. ⟨10.1016/j.micromeso.2016.04.004⟩. ⟨hal-01681533⟩
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