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Optimization of N-doped TiO 2 multifunctional thin layers by low frequency PECVD process

Type de document :
Article dans une revue
Domaine :
Liste complète des métadonnées

https://hal.umontpellier.fr/hal-01675119
Contributeur : Philippe Falque Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : jeudi 4 janvier 2018 - 10:06:44
Dernière modification le : lundi 11 octobre 2021 - 13:22:42

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Loraine Youssef, Arnaud Joël Kinfack Leoga, Stephanie Roualdes, V. Rouessac, Joelle Bassil, et al.. Optimization of N-doped TiO 2 multifunctional thin layers by low frequency PECVD process. Journal of the European Ceramic Society, Elsevier, 2017, 37 (16), pp.5289 - 5303. ⟨10.1016/j.jeurceramsoc.2017.05.010⟩. ⟨hal-01675119⟩

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